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近期光刻用ArF准分子激光技术发展
游利兵 周翊 梁勖 余吟山 方晓东 王宇
Recent development of ArF excimer laser technology for lithography
YOU Li-bing, ZHOU Yi, LIANG Xu, YU Yin-shan, FANG Xiao-dong, WANG Yu
量子电子学报 . 2010, (
5
): 522 -527 .