J4 ›› 2017, Vol. 34 ›› Issue (6): 641-647.

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激光辐照GaN改善其欧姆特性的研究进展

胡红涛1,邵景珍2,方晓东3   

  1. 1. 中国科学技术大学环境科学与光电技术学院
    2. 中科院安徽光学精密机械研究所
    3. 中国科学院安徽光学精密机械研究所
  • 收稿日期:2016-12-15 修回日期:2017-01-11 出版日期:2017-11-28 发布日期:2017-12-11
  • 通讯作者: 邵景珍

Research progress on GaN Ohmic properties improvement by laser irradiation

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  • Received:2016-12-15 Revised:2017-01-11 Published:2017-11-28 Online:2017-12-11

摘要: GaN材料在高频、高功率、高温、高密度集成电子器件等方向具有广阔的应用前景,是目前全球半导体领域研究的前沿和热点。近几年,虽然对低接触电阻率的金属/GaN欧姆接触的研究取得了巨大进步,但金属/GaN欧姆接触仍然是制约GaN器件发展应用的重要因素之一,激光技术的引进为金属/GaN欧姆接触的实现提供了一种新方法。本文对激光辐照改善GaN材料欧姆特性的研究进行了概括总结,主要介绍了准分子激光辐照对GaN材料空穴浓度的改变及其欧姆接触特性改善机理的研究进展,通过对激光辐照GaN获得低欧姆接触电阻率方案的介绍用以探究获得更优良的金属/GaN欧姆接触的研究方向。

关键词: 接触电阻率