投影光刻系统中的掩模硅片相关识别对准技术

J4 ›› 2012, Vol. 29 ›› Issue (6): 764-768.

投影光刻系统中的掩模硅片相关识别对准技术

雷亮,李浪林,周金运,王衢

广东工业大学物理与光电工程学院, 广东广州 510006

收稿日期:2012-02-07 修回日期:2012-05-22 出版日期:2012-11-28 发布日期:2014-03-20
通讯作者: 雷亮(1979~)副教授，光学博士，主要从事紫外激光器制作与光刻系统研究。 E-mail:leiliang@gdut.edu.cn
基金资助:
国家自然科学基金(61107029、60977029)，广东省自然科学基金(07001789)，广东省科技计划项目(2007B010400071)及广东省创新实验项目（1184510158、HSZJ2011089）项目资助课题

Alignment technology using matched filter correlation in projection lithography

Lei Liang, Li Langlin, Zhou Jinyun, Wang Qu

School of Physics and Optoelectronic Engineering, Guangdong University of Technology, Guangzhou 510006， China

Received:2012-02-07 Revised:2012-05-22 Published:2012-11-28 Online:2014-03-20

摘要/Abstract

摘要：

分析图像相关识别中的纯相位匹配滤波器的模式识别方法，利用该滤波器的相关识别位图计算算法，及其所具有的相干峰尖锐特性与高度旋转敏感特性，分别求取得光刻套刻过程中，掩模板和硅片基板对准标记的相对平移坐标与旋转坐标的精密量化驱动值。将此算法的实施单元建立在一套成型的大面积投影光刻系统中，使得该系统的对位精度与对位效率显著地提高。

关键词: 激光技术, 光刻, 套刻技术, 模式识别, 纯相位匹配滤波器

Abstract:

A pattern recognition named phase-only matched filtering is presented to realize high precision alignment in projecting lithography. The method achieves the alignment with the characteristic direction of templates and silicon substrate using the coherent peak rotating sensitive feature in the filter, meanwhile the relative translation distance of templates and silicon substrate is obtained in recognition algorithms. Such an alignment system is assembled in our mature projection lithography machine, and we got the experimental data to prove the higher accuracy and efficiency compared with conventional algorithms.

Key words: laser techniques, lithography, alignment technology, pattern recognition, phase-only matched filtering

中图分类号:

TN23，TN29

雷亮李浪林周金运王衢. 投影光刻系统中的掩模硅片相关识别对准技术[J]. J4, 2012, 29(6): 764-768.

Lei Liang, Li Langlin, Zhou Jinyun, Wang Qu. Alignment technology using matched filter correlation in projection lithography[J]. J4, 2012, 29(6): 764-768.

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